AD9558

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電路圖、引腳圖和封裝圖

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• 觸發(fā)二極管的結(jié)構(gòu)和工作原理

  觸發(fā)二極管，也稱(chēng)為雙向觸發(fā)二極管（DIAC）或雙向可控硅（SCR），是一種用于電力和電子控制的半導(dǎo)體器件。它以其獨(dú)特的控制方式和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域在電子工程中占據(jù)重要地位。

  2024-09-24
• 立體聲模擬到數(shù)字轉(zhuǎn)換器與單端模擬電壓輸入的ADC芯片-CJC1808

  CJC1808是一款高性能、低成本、單芯片，立體聲模擬到數(shù)字轉(zhuǎn)換器與單端模擬電壓輸入的24位立體聲模數(shù)轉(zhuǎn)換器（ADC芯片）.

  2025-12-05
• 直流無(wú)刷電機(jī)弦波控制與方波控制有什么區(qū)別

  直流無(wú)刷電機(jī)作為現(xiàn)代電機(jī)技術(shù)的重要分支，以其高效、低噪音、長(zhǎng)壽命等優(yōu)點(diǎn)廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動(dòng)化、電動(dòng)交通、醫(yī)療設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域。在直流無(wú)刷電機(jī)的控制策略中，弦波控制（通常稱(chēng)為正弦波控制）和方波控制是兩種主要的控制方式。本文將對(duì)這兩種控制方式進(jìn)行深入的分析和比較，旨在揭示它們之間的區(qū)別，為相關(guān)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員提供參考。

  2024-06-13
• 萬(wàn)里紅與美創(chuàng)科技簽署戰(zhàn)略合作協(xié)議 推進(jìn)數(shù)據(jù)安全領(lǐng)域深度合作

  5月23日，北京萬(wàn)里紅科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“萬(wàn)里紅”）與杭州美創(chuàng)科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“美創(chuàng)科技”）簽署戰(zhàn)略合作協(xié)議，雙方將在數(shù)據(jù)安全產(chǎn)品、方案、資源等方面進(jìn)行深度合作，探索打造新型數(shù)據(jù)安全智能化保障體系。東方科儀控股集團(tuán)有限公司黨委書(shū)記、董事長(zhǎng)王戈，美創(chuàng)科技創(chuàng)始人兼CEO柳遵梁出席并見(jiàn)簽，雙方有關(guān)部門(mén)領(lǐng)導(dǎo)參加簽約儀式。 本次簽約代表著雙方正式建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系，依托各自在數(shù)據(jù)安全技術(shù)及行業(yè)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)

  2024-05-25
• 臺(tái)積電Q3業(yè)績(jī)或超指引 預(yù)計(jì)第三季度營(yíng)收將增長(zhǎng)37%

  據(jù)外媒彭博社的報(bào)道，臺(tái)積電的業(yè)績(jī)?cè)趇Phone處理器銷(xiāo)量增長(zhǎng)和N3/N5制程需求持續(xù)保持高位的市況下，營(yíng)收成績(jī)表現(xiàn)很不錯(cuò)，摩根大通分析師認(rèn)為第三季度臺(tái)積電的業(yè)績(jī)可能會(huì)超過(guò)其指引。還有伯恩斯坦分析師 Mark Li 也認(rèn)為臺(tái)積電第三季度營(yíng)收有望略微超過(guò)平均預(yù)期。 此外；臺(tái)積電在8月份的銷(xiāo)售額同比增長(zhǎng)約33%，金額高達(dá)2508.7億新臺(tái)幣。這意味著臺(tái)積電第三季度的營(yíng)收已經(jīng)提前達(dá)成了市場(chǎng)預(yù)期的68%；為第三季度業(yè)績(jī)打下良好基礎(chǔ)。 有分析師預(yù)計(jì)臺(tái)積電的

  2024-09-13
• Melexis推出針對(duì)FIR陣列的免費(fèi)版人員檢測(cè)算法

  全球微電子工程公司Melexis宣布，重磅推出專(zhuān)為MLX90642（FIR） 32×24熱傳感器陣列設(shè)計(jì)的新型人員檢測(cè)算法，可實(shí)現(xiàn)人員檢測(cè)、精確計(jì)數(shù)以及位置定位。與傳統(tǒng)攝像頭相比，該解決方案在保護(hù)隱私方面更具優(yōu)勢(shì)。該算法針對(duì)天花板安裝式傳感器在有限空間內(nèi)的應(yīng)用場(chǎng)景進(jìn)行專(zhuān)門(mén)優(yōu)化，有助于工程師顯著加速開(kāi)發(fā)進(jìn)程，并將基于紅外光譜的先進(jìn)人員檢測(cè)技術(shù)無(wú)縫集成至下一代智能建筑應(yīng)用中。

  2025-12-16
• 磁性靶材磁控濺射成膜影響因素

  本文主要介紹磁性靶材磁控濺射成膜影響因素 ? 磁控濺射作為一種重要的物理氣相沉積技術(shù)，在薄膜制備領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。然而，使用磁性靶材（如鎳）時(shí)，其特殊的磁性質(zhì)會(huì)對(duì)濺射過(guò)程和成膜質(zhì)量產(chǎn)生顯著影響。本文深入探討了磁性靶材鎳在磁控濺射過(guò)程中的關(guān)鍵影響因素，包括靶材磁性對(duì)磁場(chǎng)分布的作用、工藝參數(shù)的優(yōu)化、靶材特性、基片處理、濺射環(huán)境控制、系統(tǒng)配置調(diào)整以及薄膜應(yīng)力與后處理等方面，并提出了相應(yīng)的優(yōu)化策略，旨在為實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量

  2025-02-09
• 晶體管的工作狀態(tài)判斷方法

  晶體管的工作狀態(tài)判斷是電子工程領(lǐng)域中的一項(xiàng)重要技能，它對(duì)于確保電路的正常運(yùn)行和性能優(yōu)化至關(guān)重要。晶體管的工作狀態(tài)通常根據(jù)其內(nèi)部PN結(jié)的偏置情況來(lái)判斷，主要包括截止?fàn)顟B(tài)、放大狀態(tài)和飽和狀態(tài)三種，以及一種特殊的倒置狀態(tài)。

  2024-09-24

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